SEMI Grade5 For 14nm and further technology node
品名 | 产品应用 |
双氧水 | 广泛应用于半导体前道湿法清洗工艺,包括颗粒、金 属杂质和有机物残留的清洗 |
硫酸 | 应用于半导体前道光刻胶剥离和有机物残留的清洗 |
氨水 | 应用于半导体前道particle及polymer的清洗 |
BOE | 应用于半导体前道氧化硅的湿法蚀刻工艺 |
硝酸 | 应用于半导体前道硅蚀刻液及晶圆回收清洗 |
盐酸 | 应用于半导体前道金属杂质的清洗去除 |
TMAH | 应用于半导体前道光刻胶显影剂和硅减薄工艺 |
品名 | 纯度级别 | UP-SSS | UP-SS | UP-S | UP | EL |
过氧化氢 | √ | √ | √ | √ | √ | |
硫酸 | √ | √ | √ | √ | √ | |
氨水 | √ | √ | √ | √ | √ | |
异丙醇 | √ | √ | √ | √ | √ | |
四甲基氢氧化氨 | √ | √ | √ | √ | √ | |
盐酸 | √ | √ | √ | √ | ||
硝酸 | √ | √ | √ | √ | ||
氟化铵 | √ | √ | √ | √ | ||
氢氟酸 | √ | √ | √ | √ | ||
BOE | √ | √ | √ | √ | ||
N甲基吡咯烷酮 | √ | √ | √ | |||
无水乙醇 | √ | √ | √ | |||
冰醋酸 | √ | √ | ||||
甲醇 | √ | √ | ||||
乙酸丁酯 | √ | √ | ||||
丙酮 | √ | |||||
草酸 | √ | |||||
氢氧化钠 | √ | |||||
氢氧化钾 | √ |