SEMI Grade5 For 14nm and further technology node
| 品名 | 产品应用 |
| 双氧水 | 广泛应用于半导体前道湿法清洗工艺，包括颗粒、金 属杂质和有机物残留的清洗 |
| 硫酸 | 应用于半导体前道光刻胶剥离和有机物残留的清洗 |
| 氨水 | 应用于半导体前道particle及polymer的清洗 |
| BOE | 应用于半导体前道氧化硅的湿法蚀刻工艺 |
| 硝酸 | 应用于半导体前道硅蚀刻液及晶圆回收清洗 |
| 盐酸 | 应用于半导体前道金属杂质的清洗去除 |
| TMAH | 应用于半导体前道光刻胶显影剂和硅减薄工艺 |
| 品名 | 纯度级别 | UP-SSS | UP-SS | UP-S | UP | EL |
| 过氧化氢 | √ | √ | √ | √ | √ | |
| 硫酸 | √ | √ | √ | √ | √ | |
| 氨水 | √ | √ | √ | √ | √ | |
| 异丙醇 | √ | √ | √ | √ | √ | |
| 四甲基氢氧化氨 | √ | √ | √ | √ | √ | |
| 盐酸 | √ | √ | √ | √ | ||
| 硝酸 | √ | √ | √ | √ | ||
| 氟化铵 | √ | √ | √ | √ | ||
| 氢氟酸 | √ | √ | √ | √ | ||
| BOE | √ | √ | √ | √ | ||
| 甲基吡 | √ | √ | √ | |||
| 咯烷酮 | √ | √ | √ | |||
| 无水乙醇 | √ | √ | √ | |||
| 冰醋酸 | √ | √ | ||||
| 甲醇 | √ | √ | ||||
| 乙酸丁酯 | √ | √ | ||||
| 丙酮 | √ | |||||
| 草酸 | √ | |||||
| 氢氧化钠 | √ | |||||
| 氢氧化钾 | √ |
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