超净高纯试剂-晶瑞电材-晶瑞电子材料股份有限公司

半/导/体/制/程/用

超高纯双氧水超高纯硫酸超高纯氨水

适用于：14纳米以上集成电路加工工艺

SEMI Grade5 For 14nm and further technology node

PRODUCTION BASE

品名	产品应用
双氧水	广泛应用于半导体前道湿法清洗工艺，包括颗粒、金属杂质和有机物残留的清洗
硫酸	应用于半导体前道光刻胶剥离和有机物残留的清洗
氨水	应用于半导体前道particle及polymer的清洗
BOE	应用于半导体前道氧化硅的湿法蚀刻工艺
硝酸	应用于半导体前道硅蚀刻液及晶圆回收清洗
盐酸	应用于半导体前道金属杂质的清洗去除
TMAH	应用于半导体前道光刻胶显影剂和硅减薄工艺

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